3月9日から12日まで東京工業大学で開催された第66回応用物理学会春季学術講演会に出席し、溝口(D3)、天野(M2)、西山(M1)、魏(M1)、太田(B4)、田所(B4)が発表を行いました。

  1. 溝口 来成「物理的に形成されたシリコン3重量子ドットの特性評価」10a-S221-1、第66回応用物理学会春季学術講演会(2019年)、東京工業大学、東京、2019-03-10
  2. 太田 俊輔「シリコン3重量子ドットにおける長距離相互作用」10a-S221-2、第66回応用物理学会春季学術講演会(2019年)、東京工業大学、東京、2019-03-10
  3. 田所 雅大「三角形状に並べた三重量子ドットの電流特性の磁場依存性」10a-S221-3、第66回応用物理学会春季学術講演会(2019年)、東京工業大学、東京、2019-03-10
  4. 西山 伸平「シリコン量子ドットの高帯域測定に向けた極低温アンプの評価」10a-S221-4、第66回応用物理学会春季学術講演会(2019年)、東京工業大学、東京、2019-03-10
  5. 天野 亘「正孔動作シリコン量子ドットデバイス集積化に向けたオフセットバイアスによるポテンシャル変調技術」10a-S221-5、第66回応用物理学会春季学術講演会(2019年)、東京工業大学、東京、2019-03-10
  6. 魏 赫男「p型シリコン量子ドット中での正孔スピンg因子の見積もり」10a-S221-6、第66回応用物理学会春季学術講演会(2019年)、東京工業大学、東京、2019-03-10